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關(guān)于電擊穿試驗(yàn)儀設(shè)備的特點(diǎn)

更新時(shí)間:2022-04-15      點(diǎn)擊次數(shù):1757

固體介質(zhì)的擊穿的介紹:

1   

介質(zhì)擊穿

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Ub 為擊穿電壓(擊穿電場(chǎng)Eb=Ub/d d為介質(zhì)厚度)


•     擊穿的分類

? 本征擊穿(Intrinsic Breakdown):電擊穿

? 非本征擊穿:熱擊穿(Thermal Breakdown

? 放電擊穿(Discharge Breakdown

     介質(zhì)擊穿兩種情況

? 發(fā)生久性變化(或叫不可逆變化):如固體介質(zhì)擊穿。

? 發(fā)生可恢復(fù)性變化:介質(zhì)在電場(chǎng)的作用下被擊穿,把外電 場(chǎng)撤除后,介質(zhì)又恢復(fù)其絕緣性能,如氣體。

? “自愈現(xiàn)象"(Self-Healing),如金屬化紙介電容器 。


     固體介質(zhì)擊穿的一般規(guī)律

1. 固體介質(zhì)的擊穿電場(chǎng)大于液體和氣體介質(zhì)

Eb (氣體) =3×106V/m

Eb (液體) =107~108V/m

Eb (固體) =108~109V/m

2. 固體介質(zhì)擊穿是破壞性的

3. 擊穿的發(fā)展過(guò)程

? 介電性能的破壞:絕緣變成導(dǎo)體(電擊穿)

? 介質(zhì)本身的破壞:有明顯的擊穿通道(熱擊穿、機(jī)械擊 穿)

4. 擊穿與實(shí)驗(yàn)條件有關(guān):

電極形狀、媒質(zhì)、散熱條件、電壓類型、加壓時(shí)間、厚度

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電擊穿的特點(diǎn)

①擊穿前的強(qiáng)電場(chǎng) ,符合玻爾定律: I = I0 eAU   或弗蘭克爾定律: I = I0 eB   U

②擊穿場(chǎng)強(qiáng)高,擊穿電場(chǎng)范圍較窄108~109V/m       

③在均勻電場(chǎng)中,電擊穿發(fā)生時(shí)的電場(chǎng)強(qiáng)度直到厚度為 0.1u-1u范圍都與厚度無(wú)關(guān)。                        

④擊穿場(chǎng)強(qiáng)與周圍媒質(zhì)溫度無(wú)關(guān)                     

⑤擊穿場(chǎng)強(qiáng)與加壓時(shí)間無(wú)關(guān)

電擊穿必須滿足:

電導(dǎo)率γ 小、tgδ小、散熱條件好,無(wú)氣隙、無(wú)邊緣放電

熱擊穿的特點(diǎn)

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電擊穿和熱擊穿的判斷

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熱擊穿電壓比電擊穿電壓較低


固體介質(zhì)的熱擊穿理論

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兩點(diǎn)結(jié)論:

?熱擊穿電壓Ub與溫度T密切有關(guān),和電阻率ρ與溫度 的關(guān)系相同,只是指數(shù)減半,logUb的斜率差不多為  logρ斜率的一半;

?熱擊穿電壓Ub與溝道長(zhǎng)度d成正比,但實(shí)驗(yàn)未證實(shí)。

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概念:電擊穿為固體介質(zhì)的本征擊穿。

產(chǎn)生原因:電子過(guò)程——電子碰撞電離

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近代關(guān)于固體介質(zhì)電擊穿的理論。

按照擊穿發(fā)生的判定條件,電擊穿理論分為兩大類:

1. 以碰撞電離開始作為擊穿判據(jù),這類理論為碰撞電 離理論,或稱本征電擊穿理論;

2. 以電離開始后,電子倍增到一定數(shù)值,足以破壞介 質(zhì)絕緣狀態(tài)作為擊穿判據(jù),這類理論稱為“雪崩"擊穿 理論。


碰撞電離理論

單位時(shí)間內(nèi),電子從電場(chǎng)獲得能量為A,同時(shí)與晶格碰撞  失去能量為B。晶格波能量是量子化?ω的,電子與晶格波

的交換能應(yīng)為其整數(shù)倍n?ω。

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平衡狀態(tài):

當(dāng)電場(chǎng)提高使平衡狀態(tài)破壞時(shí)A>B,碰撞電離立即發(fā)生。 由上式確定碰撞電離開始發(fā)生的起始場(chǎng)強(qiáng),并作為介質(zhì)擊 穿場(chǎng)強(qiáng)。


希伯爾低能判據(jù)

A與B在數(shù)值上有三種情形:

?當(dāng)電場(chǎng)較弱時(shí),A<B,電子將損失能量達(dá)到其穩(wěn)定值;    ?A=B時(shí),為平衡狀態(tài),對(duì)應(yīng)電子的最大能量,臨界能量 ξc ?A>B時(shí),電子將不斷從電場(chǎng)中獲得能量。

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EH為希伯爾場(chǎng)強(qiáng),或臨界擊穿場(chǎng)強(qiáng)。

電場(chǎng)要使具有這樣小能量以上的所有電子加速才能導(dǎo)致

擊穿,故稱為慢電子擊穿理論。


①當(dāng)電場(chǎng)E很低時(shí),A(E1)與B相交于兩點(diǎn),電子能量ξ1< ξ<ξ2的電子,由于損耗大于獲得,將不斷損失其能量 直至降低到ξ1而建立平衡時(shí)為止。若ξ<ξ1,則A>B電 子能量增加,直至ξ=ξ1達(dá)到平衡,電導(dǎo)的穩(wěn)定狀態(tài)不 會(huì)破壞,電強(qiáng)度也不致破壞。

②當(dāng)電場(chǎng)E很高時(shí),在任何情形下總是A(E2)>B,肯定發(fā) 生擊穿。

③當(dāng)電場(chǎng)為某一臨界場(chǎng)強(qiáng)EH時(shí),A(EH)曲線與B曲線相切, 切點(diǎn)對(duì)應(yīng)于B=f2 (ξ)為最大值處,此時(shí)平衡關(guān)系成立,


即A(EH ,ξc ) = B(T0 ,ξc )

弗洛里赫高能判據(jù)

晶體電擊穿是一些高能量的快電子碰撞電離引起,而不需要 所有的慢電子參與,電場(chǎng)只需加速部分高能量(接近晶格電離能)的電子即可使晶體擊穿。

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有兩種可能情況:

ξ′ >  ξ3  > Wi                    ①如此大能量的電子數(shù)極少,且速度快、碰撞頻繁、自由程短,不易積累能量,電子崩不易形成。

ξ2  <  ξ′ < Wi                   ②由于A>B,電子在電場(chǎng)作用下被加速而能量增至Wi,產(chǎn)生 碰撞電離并導(dǎo)致?lián)舸?。處于ξ<Wi狀態(tài)的電子,存在時(shí)間   長(zhǎng),在經(jīng)過(guò)較長(zhǎng)的自由行程后,積累足夠大的能量,易形成 電子崩,使電強(qiáng)度破壞達(dá)到擊穿,因此只要能量ξ稍小于Wi 的電子被加速,就能導(dǎo)致?lián)舸?/span>

碰撞電離理論

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堿鹵晶體擊穿場(chǎng)強(qiáng)的計(jì)算值與實(shí)驗(yàn)值

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?希伯爾電場(chǎng)充分但不必要:欲加速幾乎全部電子,所需 的電場(chǎng)強(qiáng)度自然偏高。

?弗洛里赫電場(chǎng)必要但不充分,計(jì)算出的電場(chǎng)自然偏低。

雪崩"電擊穿理論

1)碰撞電離雪崩擊穿

 

Seitz理論:一個(gè)電子從陰極出發(fā),經(jīng)過(guò)約40次碰撞 電離,介質(zhì)材料即被破壞,又稱為40繁代理論"。

設(shè)電場(chǎng)強(qiáng)度E=108V/m,電子遷移率μ≈10-4m2/V · s, 擴(kuò)散系數(shù)D≈10-4m2/s。

t=1μ s內(nèi),電子運(yùn)動(dòng)長(zhǎng)度為1cm,崩頭的擴(kuò)散半徑

約為

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在該圓柱體中原子數(shù)為

πr2 × 10?2 × 1029  ≈ 1017

設(shè)破壞晶格原子所需能量約為10eV,即破壞圓柱體內(nèi)所有 原子所需能量為:1018eV。

每個(gè)電子經(jīng)過(guò)1cm從電場(chǎng)中獲得的能量約為106eV,故只要

有1012個(gè)電子就破壞介質(zhì)晶格。碰撞電離過(guò)程中電子數(shù)以



2 α增加

2α = 1012

α = 40

隧道擊穿

由于隧道效應(yīng)使介質(zhì)中電流增   大,介質(zhì)失去絕緣性能的現(xiàn)象稱 為隧道擊穿。

隧道電流為:

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A、B為與電極-介質(zhì)間功函數(shù)有 關(guān)的常數(shù),與溫度關(guān)系不大。   這個(gè)公式給出,從電極進(jìn)入介質(zhì) 導(dǎo)帶的隧道電流的密度與場(chǎng)強(qiáng)的 關(guān)系。

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電極至介質(zhì)隧道電流密度:

① 在強(qiáng)電場(chǎng)時(shí)隧道電流隨場(chǎng)強(qiáng)的增大而迅速增大,因 而必將導(dǎo)致介質(zhì)失去絕緣性能。

② 福蘭茲提出用隧道電流導(dǎo)致介質(zhì)溫升達(dá)到一定溫度 (臨界溫度Tc)作為介質(zhì)隧道擊穿的判據(jù)。

③ 隧道電流與禁帶寬度有密切關(guān)系,禁帶狹窄時(shí),較 低場(chǎng)強(qiáng)下就有很大的隧道電流。


機(jī)械擊穿

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局部放電引起的擊穿

在工程上要制取一種連續(xù)均勻的固體介質(zhì)材料是困難的, 通常固體介質(zhì)中含有氣隙,以下兩種形式:             

1)電極與介質(zhì)層之間留有氣隙                     

2)介質(zhì)內(nèi)部存在氣隙或氣泡

在外施電壓作用下,當(dāng)擊穿場(chǎng)強(qiáng)較低的氣體(氣隙或氣泡)中的局部電場(chǎng)強(qiáng)度達(dá)到氣體的擊穿場(chǎng)強(qiáng)時(shí),這部分氣 體開始放電,使介質(zhì)發(fā)生不貫穿電極的局部擊穿,這種現(xiàn) 象被稱為局部放電擊穿。

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